Технологический процесс изготовления эпитаксиально-планарного транзистора

Окисление

Общим для диэлектрических пленок различного назначения является требование технологичности, под которым понимают прежде всего совместимость процессов получения покрытия с изготовлением структуры ИМС в целом. Технологичными следует также считать процессы, осуществляймые при невысоких температурах нагрева пластины и обеспечивающие приемлемую для производства скорость роста пленки. Загрязнения пленки, ухудшающие электрические свойства, должны отсутствовать. Поэтому химическое и электрохимическое выращивание пленок в растворах и электролитах при производстве полупроводниковых ИМС находит ограниченное применение.

Эксплуатационным требованиям достаточно полно отвечает окись кремния, получаемая при нагревании его поверхности в присутствии кислорода (термическое окисление). Термически выращенный окисел кремния обладает наилучшими маскирующими свойствами и высокими электрическими параметрами. Склонность окиси кремния к стеклообразованию способствует получению безпористой пленки. Хорошая растворимость окиси в плавиковой кислоте позволяет эффективно использовать ее в качестве маски при селективном травлении кремния.

Процесс окисления выполняют в эпитаксиальных установках или в однозонных диффузионных печах со специальными газорапределительными устройствами. На практике разгонку примеси при диффузии совмещают с окислением поверхности подложек. Окисление поверхности после эпитаксии также выполняется на одной установке в едином цикле.

Различают несколько типов термического окисления:

Термическое окисление в сухом кислороде - обладает наименьшей скоростью окисления. Преимущество - высокое качество пленки и ее высокая плотность

Термическое окисление в атмосфере водяного пара - окисление кремния существенно ускоряется. Более высокая скорость роста пленки объясняется меньшим диаметром молекулы окислителя. Недостатком является необходимость использования герметичных и высокопрочных реакторов вместо технологичных проточных систем.

Термическое окисление в атмосфере влажного кислорода - компромисное решение, обеспечивающее комбинированный процесс.

Заключение

В данном дипломном проекте рассмотрена обучающая Интернет - подсистемы для лабораторного исследования характеристик устойчивости разомкнутой и замкнутой САУ с помощью частотных критериев устойчивости. Приведены основные вопросы создания данной подсистемы:

Ø структура;

Ø структура меню;

Ø методики обучения;

Ø методика допуска;

Ø методика лабораторного исследования;

Ø алгоритмическое обеспечение;

Ø программное обеспечение.

При проектировании данной подсистемы и оформлении дипломного проекта было использовано следующее техническое и программное обеспечение:

Ø персональный компьютер семейства x86;

Ø операционная система Windows XP;

Ø сервер Apache Server 2.2.4 for Windows;

Ø язык программирования PHP 5.2.4;

Ø графический редактор Adobe Photoshop CS3;

Ø html-редактор Macromedia Dreamweaver 4.0;

Ø текстовый редактор MS Word for Windows v. 9.0.

В проекте так же рассмотрены технологические процессы фотолитографии и производства приборов (ИМС) по КМДП - технологии.

Перейти на страницу: 1 2 3 4 5 

Читайте также

Разработка макета для исследования металлических проводниковых материалов
Автоматизация производства процесс в развитии машинного производства, при котором часть или весь комплекс операций по качественному преобразованию состояния исходного сырья, управлению ...

Проектирование систем автоматизации электрических железных дорог
Последнее десятилетие характеризуется существенным совершенствованием систем телемеханики и расширением областей их применения. Это обусловлено новейшими достижениями микроэлектроники и ...

Разработка конструкции линейного коммутатора
Радиоэлектронная аппаратура (РЭА), в основу функционирования которой положены принципы электроники, строится на базе электронных компонентов различного назначения (микросхем, резисторов, ...

Основные разделы

Все права защищены! (с)2026 - www.generallytech.ru