Dl=1¸3 нм для ППЛ; Dl=20¸40 нм для СИД.
волноводная дисперсия
обусловлена процессами внутри моды и характеризуется зависимостью коэффициента распространения моды от длины волны:
tвол=Dl×В(l)=3*12=36 пс/км
; (4.12)
где: В(l) - волноводная дисперсия,
профильная дисперсия
проявляется в реальных ОК и обусловлена отклонением продольных и поперечных геометрических размеров и форм реального ОВ от номинала.
tпр=Dl×П(l)=3*5,5=16,5 пс/км
; (4.13)
где П(l) - удельная профильная дисперсия
для определения М(l), В(l), П(l) воспользуемся таблицей 4.1
Длина волны l, мкм |
0,6 |
0,8 |
1,0 |
1,2 |
1,3 |
1,4 |
1,55 |
1,6 |
1,8 |
М(l), с/(км×нм) |
400 |
125 |
40 |
10 |
-5 |
-5 |
-18 |
-20 |
-25 |
В(l), пс/(км×нм) |
5 |
5 |
6 |
7 |
8 |
8 |
12 |
14 |
16 |
П(l), с/(км×нм) |
0 |
1,5 |
5 |
2,5 |
4 |
5 |
5,5 |
6,5 |
7,5 |
Результирующая хроматическая дисперсия:
=3*10с/км. (4.14)
В одномодовых ОВ имеет место только хроматическая дисперсия, обусловленная некогерентностью источника излучения.
В многомодовых волокнах tмод>>tхр.
Модовую дисперсию для градиентного ОВ можно найти по формуле:
пс/км; (4.15)
где: NA - числовая апертура ОВ;
n1 - показатель преломления сердцевины ОВ;
с - скорость света, км/с.
Читайте также
Принцип работы оптоволоконных сканеров отпечатков пальцев
Идентификация по отпечаткам пальцев - на сегодня самая
распространенная биометрическая технология. По данным International Biometric Group, доля систем
распознавания по отпечаткам пальце ...
Разработка конструкции и технологического процесса изготовления диффузионного резистора
Разработать
конструкцию и выбрать технологический процесс изготовления диффузионного резистора
в составе ИМС. Программа выпуска - 50000 шт. в год. Выпуск ежемесячный.
Параметры
...
Разработка приемника УКВ-радиостанции
Радиоприемное
устройство - одно из важнейших и необходимых элементов радиотехнической системы
передачи сообщений. Оно обеспечивает: улавливание энергии электромагнитного
поля, нес ...